臺積電先進制程持續不斷 韓媒擔憂三星
全球最大的晶圓代工廠臺積電在7納米產能熱銷之后,現在又專心在5納米及3納米開發,并且還將眼光放在更先進的2納米研發,這些進展看在韓國媒體眼里也不得不承認,相較于三星正苦
全球最大的晶圓代工廠臺積電在7納米產能熱銷之后,現在又專心在5納米及3納米開發,并且還將眼光放在更先進的2納米研發,這些進展看在韓國媒體眼里也不得不承認,相較于三星正苦
當前,先進制程仍是半導體產業趨勢的重點之一,尤其在業界龍頭臺積電對于其先進制程布局與時程更加明確的情況下,增加主要供應鏈廠商對納米節點持續微縮的信心,勢必也將帶來
臺積電、Samsung與Intel在先進制程發展的競爭關系備受市場矚目。過去先進制程發展除了解決微縮閘極寬度上的困難外,EUV光刻機設備性能也是關鍵影響因素之一;能夠達成Immersion機臺的
在先進制程納米節點持續微縮下,光刻機是重要關鍵設備,半導體光刻機設備市場規模主要有3家設備供應商:ASML、Nikon及Cannon。。
臺積電董事會昨核準資本預算達約新臺幣1217.81億元,做為升級并擴充先進制程產能、轉換部分邏輯制程產能為特殊制程產能、研發資本預算與經常性資本預算等。