半導(dǎo)體先進制程發(fā)展擴大EUV市場需求，ASML可望持續(xù)受惠
在先進制程納米節(jié)點持續(xù)微縮下，光刻機是重要關(guān)鍵設(shè)備，半導(dǎo)體光刻機設(shè)備市場規(guī)模主要有3家設(shè)備供應(yīng)商：ASML、Nikon及Cannon。。
EUV
為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV？
就在7納米制程節(jié)點以下先進制程的領(lǐng)域，必不可少的關(guān)鍵就是極紫外線微影（EUV）設(shè)備導(dǎo)入。除了三星用在首代7納米LPP制程，臺積電也自2019年開始，將EUV導(dǎo)入加強版7納米+制程。
7納米 EUV 捉對廝殺，三星 Exynos 9825 明亮相
三星即將在 30 日推出由 7 納米 EUV 制程所量產(chǎn)的Exynos 行動處理器，相信就是目前市場上傳說的新一代 Exynos 9825 行動處理器。
7 納米 EUV 捉對廝殺，三星 Exynos 9825 明亮相
三星即將在 30 日推出由 7 納米 EUV 制程所量產(chǎn)的Exynos 行動處理器，相信就是目前市場上傳說的新一代 Exynos 9825 行動處理器。
三星完成5納米EUV工藝研發(fā)；蘋果與高通宣布和解；無錫SK海力士二工廠竣工
4月16日，三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿，宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)，現(xiàn)已準備好向客戶提供樣品，已開始向客戶提供5納米多項目晶圓服務(wù)。與7納米工藝相比，三星的5納米FinFET工藝技